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碳氮化钛 [新品] 碳氮化钛 (TiNC)
碳氮化钛呈深灰色,密度为5.08g/cm3。利用一体多温段新型工艺生产 的碳氮化钛是我司优势所在,相比传统工艺生产的碳氮化钛,具有含氧量低,固溶度高以及粒度分布均匀等特点。
更新:2024-05-15
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高纯氮化铬 [促销] 高纯氮化铬
氮化铬既是优良的炼钢合金添加剂同时也具有良好的物理和机械性能,比氮化钛的耐磨性还好。主要用于耐磨涂层。
更新:2024-05-15
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三硅化五钛 [促销] 三硅化五钛
硅化钛,三硅化五钛,Ti5Si3,阴凉通风干燥黑色粉末,密度4.10克/立方厘米,熔点2130度。
更新:2024-05-15
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二硅化锆 [促销] 二硅化锆
二硅化锆用作精细陶瓷原料粉,用于生产半导体薄膜生产用坩埚。
更新:2024-05-15
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二硅化钼 [促销] 二硅化钼
硅化钼,灰黑色粉末,密度6.28克/立方厘米,熔点2030度,二硅化钼的应用于高温抗氧化涂层材料、电加热元件、集成电极薄膜、结构材料、复合材料的增强剂、耐磨材料、结构陶瓷的连接材料等领域。
更新:2024-05-15
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二硅化钨 [促销] 二硅化钨
硅化钨用于制抗氧化覆盖层和电阻丝敷剂。
更新:2024-05-15
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二硅化铝 [促销] 二硅化铝
硅化铝用于制造低中强度的形状复杂的铸件,如盖板、电机壳、托架等。也用作钎焊焊料。
更新:2024-05-15
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二硅化钽 [促销] 二硅化钽
二硅化钽用作精细陶瓷原料粉,用于陶瓷工业以及电接触器和半导体设备。
更新:2024-05-15
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二硅化铌 [促销] 二硅化铌
二硅化铌可用作精细陶瓷原料。
更新:2024-05-15
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高导热球形氮化铝 [新品] 高导热球形氮化铝
球形氮化铝粉通过激光火焰喷射熔融法制备,所得产品纯度高、粒径分布均匀,表面干净、球形度高,无残余杂质,易于分散,与有机体很好相容。
更新:2024-05-15
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纳米级高纯氮化锆 [新品] 纳米级高纯氮化锆
氮化锆(Zr-N)化合物随着成份的变化而有多种晶体结构,在耐磨、抗氧化和抗腐蚀等方面优于纯锆,而且具有较高的超导临界温度,所以可以有可能成为很好的超导体,具有很高的使用价值。
更新:2024-05-15
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二硅化钒 [促销] 二硅化钒
二硅化钒,制备硅化钒薄膜,用大束流密度的钒金属离子注入硅,能够直接合成性能良好的薄层硅化物。
更新:2024-05-15
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硫化铜 [新品] 硫化铜
硫化铜用作分析试剂,用于复写纸和普通圆珠笔油的着色,制备混合催化剂,苯胺黑染料显色,船底保护油漆。
更新:2024-05-15
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硅化镁 [促销] 硅化镁
硅化镁(Mg2Si)是Mg-Si二元体系的非常稳定化合物,它具有高熔点、高硬度、高弹性模量的特性,是一种窄带隙n型半导体材料,在光电子器件、电子器件、能源器件、激光、半导体制造、恒温控制通讯等领域有重要应用前景。
更新:2024-05-15
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硅化镍 [促销] 硅化镍
中文名称:硅化镍英文名称:dinickel silicideCAS号:12059-14-2分子式:Ni2Si分子量:145.4723
更新:2024-05-15
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二硅化铬 [促销] 二硅化铬
二硅化铬用作陶瓷材料、高电阻薄膜材料。
更新:2024-05-15
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纳米级高纯碳化钒 [促销] 纳米级高纯碳化钒 (200nm)
碳化钒,黑色立方晶体,熔点2810℃,沸点3900℃,相对密度5.77。比石英略硬。主要用于制造钒钢。可用作碳化物硬质合金添加剂。
更新:2024-05-15
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氮化钒 [新品] 氮化钒
氮化钒,密度6.13克/立方厘米,面心立方晶体结构,显微硬度约为1520HV,熔点为2360度。具有很高的耐磨性。
更新:2024-05-15
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二硅化钛 [促销] 二硅化钛
二硅化钛,黑色粉末,密度4.02克/立方厘米,熔点2130度。
更新:2024-05-15
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二硅化铪 [促销] 二硅化铪
二硅化铪主要可用作精细陶瓷原料粉,用于生产半导体薄膜生产用坩埚。
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